文章來(lái)源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察。
隨著摩爾定律逐步進(jìn)入平臺(tái)期,目前半導(dǎo)體芯片的性能提升已經(jīng)越來(lái)越多地依賴芯片架構(gòu)設(shè)計(jì)以及高級(jí)封裝技術(shù)的提升,而不是依靠半導(dǎo)體工藝體征尺寸的下降。另一方面,隨著人工智能時(shí)代的來(lái)臨,越來(lái)越多的計(jì)算芯片設(shè)計(jì)需要考慮人工智能對(duì)于算力的需求。因此,如何在未來(lái)十年內(nèi)為人工智能應(yīng)用來(lái)設(shè)計(jì)和優(yōu)化相關(guān)的芯片架構(gòu)、工藝以及封裝系統(tǒng)就成了學(xué)術(shù)界和工業(yè)界都非常關(guān)注的問(wèn)題。
在上周召開(kāi)的2021國(guó)際電子器件大會(huì)(IEDM 2021)中,我們就看到了許多相關(guān)的研究發(fā)表,而其中非常值得我們關(guān)注的就是一篇來(lái)自MIT和斯坦福大學(xué)的論文,標(biāo)題為《The Future of Hardware Technologies for Computing: N3XT 3D MOSAIC, Illusion Scaleup, Co-Design》(《面向計(jì)算的未來(lái)硬件平臺(tái):N3XT 3D MOSAIC與Illusion Scaleup協(xié)同設(shè)計(jì)》)。該研究并非是一日之功,而是以MIT和斯坦福大學(xué)為代表的美國(guó)半導(dǎo)體工藝學(xué)術(shù)研究學(xué)派在超高密度3D集成領(lǐng)域多年研究的最新成果,并且還規(guī)劃了未來(lái)的路線圖。
目前,雖然以TSV為代表的3D集成技術(shù)已經(jīng)成熟,但是3D集成的通孔之間的間距仍然較大,在10um數(shù)量級(jí)。為了能進(jìn)一步提升3D集成密度,美國(guó)半導(dǎo)體學(xué)術(shù)界(以斯坦福的黃漢森,Subhasish Mitra和MIT的Max Shulaker為代表)提出的方案是使用碳納米管技術(shù)。碳納米管技術(shù)的一個(gè)重要優(yōu)勢(shì)就是可以實(shí)現(xiàn)超高密度3D堆疊通孔,其通孔間距可縮小至100 nm,比目前的TSV通孔間距縮小了兩個(gè)數(shù)量級(jí)。同時(shí),考慮目前人工智能應(yīng)用,其主要的性能瓶頸在于內(nèi)存訪問(wèn),因?yàn)槿斯ぶ悄芩枰纳窠?jīng)網(wǎng)絡(luò)模型運(yùn)行時(shí)無(wú)論是權(quán)重還是中間結(jié)果都需要大量的內(nèi)存資源,因此需要把存儲(chǔ)器和計(jì)算邏輯以非常高的效率集成在一起。兩者相結(jié)合,就是使用碳納米管技術(shù)和超高密度3D集成技術(shù)把計(jì)算和(新)存儲(chǔ)器集成在一起,而美國(guó)半導(dǎo)體學(xué)界提出的解決方案就是N3XT,全稱是“基于納米工程的計(jì)算系統(tǒng)技術(shù)”。具體來(lái)說(shuō),N3XT把多種使用不同工藝實(shí)現(xiàn)的芯片層(包括用傳統(tǒng)硅工藝實(shí)現(xiàn)的數(shù)字邏輯,使用下一代存儲(chǔ)器工藝實(shí)現(xiàn)的高密度存儲(chǔ)器,使用碳納米管工藝實(shí)現(xiàn)的計(jì)算邏輯等)使用超高密度3D集成通孔集成到了一起。
以N3XT為單元,還可以把多個(gè)不同的N3XT單元(以及傳統(tǒng)的芯片)以各種形式進(jìn)一步集成到一起,例如可以用TSV的形式把多個(gè)N3XT單元堆疊在一起,也可以用2.5D封裝的形式把多個(gè)N3XT封裝到通過(guò)一個(gè)硅基板上,由此實(shí)現(xiàn)超大規(guī)模的異構(gòu)集成。這種把多種芯片以各種方式集成到一起的方案稱之為MOSAIC(即Monolithc/stacked/assembled IC,指以各種不同形式集成到一起的芯片單元)。
至此,該研究中的主要工藝和器件技術(shù)(即論文標(biāo)題中的N3XT 3D MOSAIC)已經(jīng)呈現(xiàn)在了我們眼前。下一步就是如何在系統(tǒng)層面上最大化這種規(guī)模化集成的效率。
超高密度3D集成配合系統(tǒng)優(yōu)化實(shí)現(xiàn)千倍性能提升
隨著人工智能對(duì)算力的需求越來(lái)越高,未來(lái)的N3XT系統(tǒng)也需要考慮在系統(tǒng)層面上如何最優(yōu)化以滿足人工智能的算力需求;換句話說(shuō),如果給100個(gè)N3XT系統(tǒng),如何最優(yōu)化地分配任務(wù),讓整體計(jì)算效率最高?這個(gè)問(wèn)題如果能解決地好,就能很好地處理N3XT系統(tǒng)對(duì)于人工智能計(jì)算問(wèn)題的規(guī)?;╯cale-up)。
對(duì)此,研究者提出的方案是Illusion Scaleup。Illusion scaleup主要是針對(duì)人工智能應(yīng)用中的深度學(xué)習(xí)算法。該系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法中,首先把整個(gè)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)分割成多個(gè)部分,并且給每個(gè)N3XT模塊分配一部分計(jì)算任務(wù)。例如,分割可以以神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)層為單位,當(dāng)一層的計(jì)算量比較小的時(shí)候,可以在單個(gè)N3XT模塊上分配多個(gè)層的計(jì)算;當(dāng)一層的計(jì)算量較大時(shí),則可以把一層網(wǎng)絡(luò)也分割成多個(gè)部分給不同的N3XT模塊。由于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)不同的層之間是串行計(jì)算關(guān)系,因此通過(guò)這種以層為單位來(lái)分割工作量,就可以讓不同的N3XT模塊之間以流水線的方式工作。另外,由于每個(gè)N3XT只負(fù)責(zé)一層計(jì)算,因此可以確保神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的權(quán)重不用在模塊間移動(dòng),而僅僅只需要移動(dòng)中間結(jié)果,這樣就大大減小了數(shù)據(jù)移動(dòng)帶來(lái)的額外開(kāi)銷。
最后,由于N3XT系統(tǒng)可以使用下一代非易失性存儲(chǔ)器,例如RRAM,因此可以支持快速開(kāi)關(guān),針對(duì)于此作者還提出了可以利用此特性在不需要使用某個(gè)N3XT單元的時(shí)候把它關(guān)閉,從而可以大大節(jié)省漏電流。使用這樣的策略,可以通過(guò)線性增加每個(gè)N3XT的性能(例如增加N3XT堆疊層數(shù),以及N3XT之間的互聯(lián)帶寬)來(lái)滿足人工智能計(jì)算對(duì)于算力指數(shù)級(jí)上升的算力。使用這樣的方法,研究表明整個(gè)N3XT 3D MOSAIC可以實(shí)現(xiàn)比目前3D堆疊100-1000倍的性能提升。
超高密度3D集成商用化的道路
目前美國(guó)半導(dǎo)體學(xué)術(shù)界對(duì)于碳納米管和N3XT相關(guān)技術(shù)的商用化決心很大,目前也有不錯(cuò)的成果。整體來(lái)說(shuō),碳納米管在美國(guó)的商業(yè)化過(guò)程中包括了多方的加入:美國(guó)政府研究機(jī)構(gòu)DARPA,高校MIT和斯坦福,以及美國(guó)專門(mén)負(fù)責(zé)先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)代工的代工廠SkyWater。DARPA從多年前就開(kāi)始大力資助碳納米管相關(guān)的下一代半導(dǎo)體工藝研究,兩年前,MIT的Max Shulake已經(jīng)帶領(lǐng)研究組在SkyWater實(shí)現(xiàn)了首個(gè)碳納米管和RRAM的3D堆疊芯片晶圓,而在最近的兩年中,同樣的團(tuán)隊(duì)陸續(xù)完成了多個(gè)里程碑,包括首個(gè)碳納米管實(shí)現(xiàn)的超大規(guī)模集成電路(RISC-V處理器),首個(gè)碳納米管PDK等等。同時(shí),在整個(gè)碳納米管研究團(tuán)隊(duì)中起領(lǐng)袖作用的斯坦福大學(xué)教授黃漢森本人曾于2018-2020年學(xué)術(shù)休假期間全職擔(dān)任TSMC的副總裁,而在回到斯坦福大學(xué)之后仍然擔(dān)任TSMC的首席科學(xué)家職位,相信他也會(huì)成為碳納米管超高密度3D堆疊技術(shù)商用化的重要橋梁人物。
而在另一方面,在半導(dǎo)體工業(yè)界,對(duì)于大規(guī)模高密度3D封裝的追求也是歷歷可見(jiàn)。例如,AMD今年早些時(shí)候發(fā)布的3D V-Cache使用了TSMC的最新SoIC技術(shù),可以將3D堆疊通孔間距下降到1um數(shù)量級(jí),從而大大增加了3D堆疊的互聯(lián)密度。Intel也同樣在今年發(fā)布了Ponte Vecchio,可謂是它最雄心勃勃的芯片計(jì)劃,借助TSV以及Intel特有的EMIB技術(shù)實(shí)現(xiàn)了超大規(guī)模2.5D和3D互聯(lián)以及封裝。半導(dǎo)體業(yè)界對(duì)于下一代超高密度封裝和互聯(lián)非常強(qiáng)的訴求以滿足人工智能高性能計(jì)算的需求,在這樣的情況下,我們認(rèn)為N3XT 3D MOSAIC從學(xué)術(shù)界的角度給出了一個(gè)未來(lái)相關(guān)技術(shù)的進(jìn)化路線圖,其中至少有一部分(例如3D MOSAIC)會(huì)在未來(lái)幾年內(nèi)落地到商用中,而碳納米管技術(shù)隨著更多研究和驗(yàn)證,也可望在稍遠(yuǎn)的時(shí)間節(jié)點(diǎn)正式進(jìn)入商用。
在中國(guó),相關(guān)的碳納米管技術(shù)在學(xué)術(shù)界也有很好的研究積累,北大的彭練矛院士等團(tuán)隊(duì)也在全球頂級(jí)期刊上發(fā)表了非常具有影響力的研究結(jié)果。超大規(guī)模高密度3D集成是一項(xiàng)系統(tǒng)工程,需要半導(dǎo)體工藝和器件,先進(jìn)封裝技術(shù)以及電路架構(gòu)領(lǐng)域的協(xié)同發(fā)展,我們希望中國(guó)的相關(guān)技術(shù)能從目前的碳納米管器件的單點(diǎn)突破真正拓展到系統(tǒng)級(jí)突破,同時(shí)配合半導(dǎo)體代工和封裝業(yè)界的發(fā)展,這樣才能在下一代基于新一代器件和封裝技術(shù)的半導(dǎo)體新范式來(lái)臨時(shí),能有足夠多的技術(shù)積累來(lái)引領(lǐng)整個(gè)技術(shù)潮流的發(fā)展。
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